Bruker宣布多主逻辑和铸造厂选择BrukerJVX7300LSIX射线计量系统支持他们的斜坡并开发10纳米和7/5纳米技术节点上头VX7300LSI工具装有大小点测量能力,用于最先进逻辑设备内生产过程监控工具由制造商在综合评价前端各种应用极具挑战性测量后选择,这些应用包括Si和SRB表单分析、FinFETs和FDSOI三维等材料和高k/Metal门定性

大卫五世表示:「我们很高兴被行业领先半导体客户选择为高级上表处理提供无与伦比的度量解法”。Rossi Bruker半导体分局主席增强我们法基X射线计量学位置是Bruker2015年获取Jordan Valley半导体理论的一部分,

并补充BrukerX光半导体业务副总裁兼总经理Isaac MazorJVX7300LSI系统是各种应用的理想工具,提供在开发和制造这些过程期间克服许多挑战所需的计量学广度X射线特征和计量技术-HRXRD、XRR和各种XRD几何-并同时优化毛毯和模式瓦

关于JVX7300LSI系统

JVX7300LSI是一个可生产X射线计量系统,用于高级逻辑应用和三五半导体Si应用工具支持各种X射线计量模式,为各种材料和结构提供解决方案可使用大小点HRXRD测量单层和多层堆栈组成、厚度和松绑并用XRR和GIXRD信道JVX7300LSI还提供多薄膜厚密度信息,以及单片晶度、粒度和相位等单片微结构信息与光学或光谱工具不同,HRXRD(高分辨率X射线分解)和XRR(X射线反射法)是第一原理技术,不标定即交付精确结果

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