作为低压高效等离子源制造领域的领军企业，PIE科技近日发布了一款革命性的下游等离子清洗机——SEMI-KLEEN等离子清洗机。

它是为满足半导体基本设备行业最严格的污染要求而设计的。革命性的低等离子体电位放电技术大大降低了离子溅射损伤的风险。SEMI-KLEEN等离子体清洁器结合专利的两级过滤气体输送系统，已被证明能够满足10nm以下节点的颗粒污染要求。

SEMI-KLEEN等离子体清洁器可用于各种电子和离子显微镜，如扫描电子显微镜(SEM)，聚焦离子束系统(FIB)，透射电子显微镜(TEM)，电子束检查系统(EBI)，电子束回顾(EBR)和临界尺寸扫描电子显微镜(CD-SEM)的碳氢化合物污染的清洗应用。客户报告说，在使用SEMI-KLEEN远程等离子清洗机清洗腔室、stage和样品后，图像分辨率更好，图像对比度更好，材料分析结果更准确。SEMI-KLEEN等离子体清洁器具有低颗粒设计，也被用于原子层沉积(ALD)系统和极紫外光刻(EUVL)研究项目。

SEMI-KLEEN等离子清洁剂配有smartClean^TM技术。智能操作采用嵌入式微电脑触摸屏用户界面和多个状态传感器。先进的等离子体传感器监测等离子体的强度，并将这一信息实时显示在液晶显示屏和安装在显微镜计算机上的控制软件上。它可以帮助用户设置不同抽速的真空系统的最佳配方。SEMI-KLEEN等离子清洗机可通过嵌入式高精度压力传感器监测样品室压力事件。这些事件可以作为智能操作模式的联锁或触发器。压力传感器也可用于电子气体输送系统的闭环反馈控制。SEMI-KLEEN等离子清洗机还具有100瓦射频电源，具有自动阻抗匹配，电子可调流量控制，低EMI发射设计和安静的待机模式。

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