PlasmaQuantMS-Echo Plasma
发布日期 :
2015年4月22日
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作者/源码:
解析捷那
PlasmaQuant介绍®MS,Analytik Jena扩展组合使用ICP-MS
新开发的质谱计配有专利固态RF生成等离子体新标准高效RF生成强平衡等离子体,Argon消耗速率小于10升/min等离子冷气有效将argon消费比市场常规ICP-MS减少一半PlasmaQuant强等离子®MS理想分析液样,尽管单粒子或干浮质分析显示其强度例举,结合激光反扰动样本介绍新建生态等离节资源并降低运行成本而不牺牲ICP-MS性能
- 自由运行27兆赫固态生成器
- 中性等离子体低动能传播
- 强等离子性能比阿龙消耗量少50%
- 高效分解高固化矩阵
- 可变等离子功率介于0.3至1.6kW
- 处理有机矩阵而不修改火炬配置
- 高矩阵样本Aroso稀释选项
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