月度通讯

Vapourtec(Suffolk,UK)最近发射UV-150光化堆的许多关键特征之一是有专利的Dichroic镜像机,它允许连续过程光化学实验中更好的温度控制

镜面反射涂层允许高效吸收和发热红外波长,同时反射紫外波长回反射

Andrew Mansfield Vapourtec解释道 : UV-150已经与学术集团和制药行业在摄影化学领域打分,发现它提供以前无法实现的控制水平、可扩缩性与一致性

重要控件来源于UV-150内嵌入的Dichroic镜像外壳内部面对紫外线辐射有强烈反射作用并大量吸收可见红外辐射

涂层能反射90%以上波长范围为200-450纳米并吸收90%以上波长为500-2000纳米

UV-150和Dichroic镜像允许研究组拓展反应范围并给化学家增加化学空间的机会

Vapourtec设计和制造流化学系统遍及全球各部门,包括教育、制药和工业及其技术被指为近期重大研究突破中关键作用

Vapourtec开发出兴旺的国际市场技术,在包括美国、中国、日本、新加坡和印度在内的大多数发达世界销售

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