Sensofar和Linkam开发了一种新技术，用于表征纳米尺度材料的温度诱导形貌演化

Sensofar是一家专注于非接触式表面测量领域的技术公司，该公司开发了一种新技术，利用S neox 3D光学轮廓仪和Linnik干涉仪与Linkam的LTS420温控室相结合，来表征样品表面形貌随温度的变化。该技术已被成功地用于绘制温度高达380°C的硅片粗糙度和波浪度的变化。

光学轮廓法是一种快速、无损、非接触式的表面测量技术，用于确定材料的表面形貌、台阶高度和表面粗糙度。它在许多研究领域都有广泛的应用，包括分析油漆和涂料的表面纹理，分析微裂纹和划痕，为微电子等结构材料创建磨损剖面，以及表征有纹理或压纹的纳米级半导体组件，如硅片。

从历史上看，由于LTS420级物镜前透镜和石英窗温度随球差变化而引起的成像问题，一直难以进行温控光学轮廓测量实验。

通过使用Sensofar公司的新型Linnik干涉仪透镜系统和S neox 3D光学轮廓仪，结合Linkam公司的LTS420精密温控室，解决了球差问题，实现了在大范围温度下精确测量纳米尺度材料的三维形貌轮廓。

Sensofar销售支持专家David Páez评论道:“在最近一次使用新技术的实验中，我们能够观察到硅片随温度从20°C到380°C变化时的形貌变化。这是硅晶圆生产商和用户的关键信息，使他们可以优化他们的工艺，提高半导体性能和晶圆耐用性。Linkam LTS420室和T96温度控制器是我们实验设置的关键组件，使我们能够在-195°C到420°C之间倾斜和控制温度到0.01°C的精度。”

Linkam的应用专家Robert Gurney补充说:“几十年来，我们为从显微镜到x射线分析的各种技术提供了精确的温度和环境控制。这次合作强调了温度控制在材料特性创新方法中的重要作用。感谢Sensofar的Linnik干涉仪，我们非常高兴能够提供温度控制轮廓测量的解决方案，我们期待看到这种新技术如何帮助许多科学领域的研究人员推进他们的研究和知识。”

Sensofar公司的第五代S neox 3D光学轮廓仪是目前市场上速度最快的扫描共聚焦轮廓仪。它很容易使用，与以前的型号相比有一些关键的优点。桥架设计提供了更高的稳定性，传感器头使用改进的算法，生产市场上最快的系统，没有移动部件，因此，最低服务要求或广泛的校准需求。Linnik干涉仪和Linkam LTS420的加入使温度控制< -195°C到420°C。不同的亮场目标与Linnik配置兼容，工作距离可达37mm，放大倍数可达100倍，适用于需要高横向分辨率的应用。

Linkam的LTS420是一个易于使用和非常通用的加热和冷冻阶段。该平台由一个大面积的温度控制元件和嵌入在接近表面的传感器组成，用于在< -195°C到420°C范围内进行精确的温度测量(当与LNP96冷却泵一起使用时)。样品很容易安装在标准的显微镜载玻片上，与加热元件直接接触，可以在X和Y方向上操作15mm。样品室是气密的，并有阀门，以允许大气成分控制，并有湿度和电探头的选择。

更多的新闻Linkam科学