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PIE高压等离子源制造领先最近发布革命性下游等离子净化SEMI-KLEEN等离子

设计它是为了满足半导体资本设备行业最强污染需求革命性低等离子释放技术大大降低离子喷射损害风险SEMI-KLEEN等离子体净化器同专用二级滤气系统一起证明能够满足子10n节点粒污染需求

SEMI-KLEEN等离子显像机应用SEMI-KLEEN远程等离子体清洗后客户报告图像分辨率提高、图像对比提高和更精确物料分析结果提高低粒子设计SEMI-KLEEN等离子体净化器还用于原子层沉积系统(ALD)和极紫外线程研究项目

SEMI-KLEEN等离子清除器带SmartClean^TM技术类智能操作由嵌入式微型计算机启动,机上装有触屏用户界面和多状态传感器高级等离子传感器监控等离子体强度并实时显示LCD屏幕和控制软件安装在显微镜计算机上的信息帮助用户搭建吸尘系统最优配方 并使用不同泵速度SEMI-KLEEN等离子处理器可用嵌入高精度传感器监控采样室压力事件此类事件可用作智能操作模式的联锁或触发程序压力传感器还可用于为电子气传输系统提供近环反馈控制SEMI-KLEEN还拥有100瓦特RF电源并配自动阻塞、电子可调流控制、低EMI排放设计以及静默待命模式

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